ETAMax自动光致发光成像系统TO-LED

产品名称：ETAMax自动光致发光成像系统TO-LED

产品型号：TO-LED

产品介绍：

PLIMA-LED系列是HORIBA整合EtaMax技术后推出的针对MicroLED市场的全流程在线系统。该系统支持从COW（Chip on Wafer，晶圆上的芯片）到COC（Chip on Carrier，载板上的芯片）乃至模组化的全流程在线检测，是确保MicroLED量产过程中每一颗芯粒都合格的关键防线。

TO 是一款全自动光致发光成像系统，是专为评估化合物半导体晶圆级光谱特性而优化的测量设备。根据泵浦激光器和光谱仪的选择，TO可评估从深紫外（DUV）到近红外（NIR）波段的光谱特性。TO 提供广泛的定制选项，可应用于多种领域（如 LED、功率器件、光通信等）。

性能特点：

多技术融合：PLIMA-LED系列将宏观与微区光致发光成像（Macro PL & Micro PL）、基于BSI/线扫相机的高分辨PL成像技术与AOI（Automated Optical Inspection，自动光学检测）缺陷检测结合，实现了对MicroLED芯粒的整体检测。

测量：该系统可检测小至2μm的MicroLED芯粒的发光强度、峰值波长、色度一致性、缺陷形貌与位置偏移等关键参数，确保每一颗芯粒都符合质量要求。

全流程支持：PLIMA-LED系列支持从晶圆、COW、COC多形态载体上的缺陷检测，满足MicroLED从实验线走向量产线的全流程检测需求。

技术参数：

产地：韩国

系列：TO系列

晶圆移动（用于成像）：

XY线性电机载物台（用于晶圆移动）

Z轴载物台（用于补偿基板厚度）

晶圆处理：

三轴伺服控制晶圆传输机器人

晶圆预对准装置

探测器：

焦距193毫米，双输出成像光谱仪。

电动入射狭缝

双光栅转盘

- 300线/mm，500 nm 锥面光栅

- 600线/mm，300 nm 锥面光栅

紫外增强型热电制冷CCD探测器

- 光谱范围：200~1050 nm

光源：

#1：266 nm DPSS激光器（>10mW）

#2：375 nm 连续波激光器（50 mW）

#3：532 nm 连续波激光器（50 mW）

用于厚度和反射率测量的卤素灯

测量

重复性

波长（Wp、Wd）、半高宽（FWHM）：± 2.5 nm

相位指数（PI）、积分指数（II）、反射率：± 2.5 %

厚度：± 1 %

弯曲度：± 2 μm（>30 μm）

再现性

Wp、Wd、FWHM：± 5 nm

PI、II、反射率：± 5 %

厚度：± 1 %

弯曲度：± 5 μm（>30 μm）

操作软件

编程语言：C#

操作模式：操作员、工程师、维护

工作环境

场所：洁净室（ISO3级）

温度：15-35 ℃

湿度：< 85%RH（无露凝结）

TO（自动装载系统）

尺寸：约 1550(宽) x 1200(深) x 1600(高) mm

重量：约 700 kg

输入电压/电流：单相 220 V，30 A

CDA 或 N2：0.4-0.6 MPa

真空：-80 kPa