Onto计量系统IMPULSE V System

产品名称：Onto计量系统IMPULSE V System

产品型号：IMPULSE V System

产品介绍

IMPULSE V 系统采用增强型波前技术和人工智能驱动的分析功能，助力推进 CMP 工艺，实现过 2 倍的精度提升和快的解决方案，这对于满足下一代半导体制造的需求至关重要。随着晶圆均匀性要求日益严格，垂直尺寸不断缩小，各细分市场对化学机械抛光 (CMP) 工艺的需求也日益增长。逻辑电路引入了新的晶体管设计和材料，DRAM 采用新的材料和工艺步骤来实现平坦化，而 3D NAND 则增加了多的层、堆叠和层数。

的波前技术可抑制复杂结构中的前层噪声，并提供反馈以提升长期重复性。该系统专为高采样率、芯片内/器件上和晶圆边缘测量而设计，与上一代产品相比，性高、吞吐量大，精度提升过 2 倍。板载人工智能驱动的机器学习功能利用信噪比来加快解决方案的生成速度，有效解决以往难以测量的层的问题。

性能特点

l IMPULSE V 系统可作为集成平台或立平台使用，显著提升 CMP 工艺模块的薄膜测量精度和生产效率。

l 该系统采用深紫外 (DUV) 光学技术和源自 Atlas 平台的人工智能驱动的机器分析功能，与 Atlas 平台协同工作，使 CMP 工艺工程师能够有效管理偏差并推动工艺改进 (Cpk)。

技术参数

产地：美国

系统技术：增强型波前技术

分析功能驱动：人工智能

边缘测量：芯片内/器件上和晶圆

协同平台：Atlas

光学：深紫外 (DUV)

测量对象：薄膜

平台：集成或立

噪声抑制：复杂结构中的前层噪声

精度提升：2倍

产品应用

CMP